高純濺射靶材產業在中國市場起步較晚，主要高純濺射靶材生產企業均由國有資本和少數民營資本所投資。受到技術、資金和人才的限制，中國專業從事高純濺射靶材的生產廠商數量仍然偏少，企業規模和技術水平參差不齊，多數中國廠商還處于企業規模較小、技術水平偏低、產業布局分散的狀態，市場尚處于開拓初期，主要集中在低端產品領域進行競爭。

全球范圍內以霍尼韋爾、普萊克斯、愛發科等資金實力雄厚、技術水平領先、產業經驗豐富的跨國公司居于全球高純濺射靶材行業的領導地位，屬于濺射靶材的傳統強勢企業，憑借其強大的技術研發實力和市場影響力牢牢占據全球濺射靶材市場的絕大部分市場份額，主導著全球濺射靶材產業的發展，推動行業技術的進步。

高純濺射靶材產業以美國、日本為代表的半導體廠商需要加強對上游原材料的創新力度，從而最大限度地保證半導體產品的技術先進性，因此，美國、日本的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商，并于當前居于全球市場的主導地位，在一定程度上，全球半導體工業的區域集聚性造就了高純濺射靶材生產企業的高度聚集。

中國高純濺射靶材市場經過數年的科技攻關和產業化應用，目前，中國高純濺射靶材生產企業已經逐漸突破關鍵技術門檻，擁有了部分產品的規模化生產能力，整體實力不斷增強，形成了以本公司、有研新材等為代表的專業從事高純濺射靶材的生產商，正在經歷高速發展時期，上升勢頭較快，打破了濺射靶材核心技術由國外壟斷。并且在半導體芯片、液晶顯示器和太陽能電池等市場開展與國際巨頭開始競爭，依靠產業政策導向、產品價格優勢已經在中國市場占有一定的市場份額，并逐步在個別產品或領域擠占國際廠商的市場空間。

另外高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的，屬于典型的技術密集型產業，產品術含量高，研發生產設備專用性強。隨著中國半導體、液晶顯示器和太陽能電池等工業技術創新的不斷深化，中國電子行業多濺射靶材不段提升，這更加促進中國濺射靶材的快速發展。