因瓦合金具有很低的平均線熱膨脹系數(shù)，廣泛應(yīng)用于無(wú)線電，精密儀表，儀器等行業(yè)。高強(qiáng)度因瓦合金作為電力電纜材料，其需求量日益增長(zhǎng)。它不僅要求具有較高的強(qiáng)度特性，而且要求具有優(yōu)良的抗扭轉(zhuǎn)特性。

因瓦合金的力學(xué)性能與物理性能與熱軋、固溶、拉拔、時(shí)效等工藝過(guò)程中的晶體學(xué)特征息息相關(guān)，如晶粒大小、晶界特性、織構(gòu)類型與分布、組織轉(zhuǎn)變、再結(jié)晶情況等。電子背散射衍射（EBSD）技術(shù)是在材料精細(xì)組織結(jié)構(gòu)分析上的重要手段，而EBSD樣品制備成為影響最終分析結(jié)果的重要因素。因瓦合金試樣在加工與制備過(guò)程中產(chǎn)生的表面應(yīng)力層，使得獲得的衍射花樣質(zhì)量差，標(biāo)定率低。電解拋光技術(shù)是效率最高，重復(fù)性最好的去除表面應(yīng)力的一種手段，但是獲得合適的拋光液及工藝參數(shù)比較困難。

一、因瓦合金電解拋光方法如下：

將熱軋因瓦合金盤(pán)條（Φ8）樣品的縱截面先進(jìn)行機(jī)械打磨，經(jīng)機(jī)械拋光后用水酒精清洗，吹干。選用分析純C3H8O2:HClO4:C2H5OH=1:2:22(體積比)配置電解拋光液。將電解拋光液置于電解槽中，電解前將液氮倒入電解槽中，直至電解拋光液的溫度降低至5℃。樣品為陽(yáng)極，不溶性金屬為陰極，設(shè)置拋光電壓為40V，拋光時(shí)間為15s，并對(duì)電解液進(jìn)行磁力攪拌。電解拋光完畢的樣品立刻用水清洗，再經(jīng)酒精清洗后，烘干即可。本實(shí)施例所得試樣表面平整、光潔、無(wú)變形層，標(biāo)定率達(dá)99%，為熱軋因瓦合金盤(pán)條縱截面的EBSD 的花樣質(zhì)量圖。

二、因瓦合金電解拋光方法優(yōu)勢(shì)

其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17～22的體積比混合而成。電方法采用上述的電解拋光液，因瓦合金試樣置于電解拋光液中作為陽(yáng)極，不溶性金屬為陰極；電解拋光液的溫度為0℃～10℃，拋光電壓為30～40V，對(duì)因瓦合金試樣進(jìn)行電解拋光。

1、采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于：配制簡(jiǎn)單，拋光效果好，試樣表面平整、光潔、無(wú)明顯變形層，可多次使用。能有效去除表面的應(yīng)力層，有效地提升電解拋光質(zhì)量，得到高標(biāo)定率的電子衍射花

2、能有效的去除樣品表面的應(yīng)力層，試樣表面平整、光潔、無(wú)變形層，有利于EBSD測(cè)試時(shí)產(chǎn)生強(qiáng)的衍射花樣，獲得高的標(biāo)定率，以便于對(duì)因瓦合金進(jìn)行晶界特征、織構(gòu)、應(yīng)力等微觀組織結(jié)構(gòu)的研究。

由上可見(jiàn)因瓦合金采用電解拋光方法非常有利因瓦合金產(chǎn)品，這種方法對(duì)因瓦合金材料在使用精密儀表，儀器等行業(yè)上有非常重要的影響，對(duì)這些產(chǎn)品的使用和性能提升都有很好的幫助。目前因瓦合金材料的供應(yīng)，對(duì)整個(gè)行業(yè)的發(fā)展都有很深的影響，充足的因瓦合金材料供應(yīng)是市場(chǎng)發(fā)展重要因素。